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數字水平儀SELN-001B:半導體與機床領域的精密校準專家

發(fā)布時間:2025-09-09 點擊量:37

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SEM坂本數字水平儀SELN-001B作為行業(yè)內的測量與校準利器,正以其性能和無比優(yōu)勢,為半導體制造和機床檢測企業(yè)帶來未有的革新。

一、精準測量,奠定工藝基石

1. 半導體制造領域的精密應用

光刻機作為半導體制造的核心設備,對工作臺和光路系統的水平精度要求近乎苛刻。SELN-001B憑借其高達±0.001deg的角度精度,能精確校準光刻機工作臺,確保晶圓與光刻鏡頭的距離分毫不差,從而保障光刻圖案精度。

在刻蝕工藝中,反應腔室與晶圓承載臺的水平度直接關乎刻蝕效果。SELN-001B可快速探測反應腔室的傾斜角度,助力技術人員迅速調整至理想水平,實現刻蝕氣體均勻分布,顯著提高刻蝕均勻性和精度。

對于鍍膜設備,真空腔室與蒸發(fā)源等部件的水平狀態(tài)決定了鍍膜質量。SELN-001B輕松應對真空腔室安裝調平,大幅縮短安裝時間,同時保障腔室水平度,使鍍膜均勻性更上一層樓。

2. 機床導軌精度檢測的強大助力

機床導軌是機床精度、機床剛性及機床耐久性的重要指標之一。SELN-001B在機床裝配和維護過程中發(fā)揮著關鍵作用:

機床組裝前,對組成部件進行檢測,主要包括機床導軌的平行度、直線度、垂直度以及工作臺的平面度等。 一個軸向運動包含七項精度:線性位移、垂直面的直線度、水平面的直線度、滾動角、俯仰角、偏擺角和對其他軸的垂直度。SELN-001B能夠精準測量這些參數,為總裝工作提供準確數據依據,幫助工程師進行誤差修正,對導軌進行反復測量、鏟刮、研磨或其他機加工。

二、產品創(chuàng)新設計與技術優(yōu)勢

SEM坂本數字水平儀SELN-001B是根據半導體制造設備水平調整要求而設計的工業(yè)水準儀,自1999年開始生產并持續(xù)至今,在行業(yè)中以其高性能獲得了高度評價。

五大核心優(yōu)勢:

  1. 超高精度測量:X、Y軸的角度精度高達±0.001deg(相當于17.5μm/m),滿足最嚴苛的精密制造環(huán)境要求。

  2. 狹窄空間適應能力:上下間隔狹窄部位的水平觀測也能輕松完成,適應半導體設備內部復雜緊湊的結構。

  3. 數字化測量判斷:通過瞬時的數字測量判斷,可以統一作業(yè)者的標準,減少人為誤差。

  4. 雙軸同時調整:通過雙軸同時調整功能,顯著縮短了調整作業(yè)工時,提高工作效率。

  5. 智能化操作體驗:設置合格角度范圍,即使是初學者,水平調整作業(yè)也很輕松簡單。

主要技術規(guī)格:

參數類型技術規(guī)格
傳感器尺寸Φ50 x 19毫米
傳感器重量70克(含SVS底座)
機身尺寸約96 x 35 x 145毫米
線性角度X方向/±0.3deg,Y方向/±0.3deg
顯示范圍0.0001deg
測量分辨率0.0002deg
電源專用AC適配器DC6V或4節(jié)AA電池
機身重量280克

三、實際應用案例與成效

在某半導體制造企業(yè),引進新刻蝕機時,SELN-001B大顯身手??焖傩史磻皇宜?,使產品良品率從85%飆升至92%。調整晶圓承載臺水平后,刻蝕不均勻問題得到有效解決,生產成本大幅降低

另一家半導體工廠在鍍膜設備維護與升級中,借助SELN-001B,將真空腔室安裝時間從兩天縮短至一天,鍍膜均勻性顯著改善。蒸發(fā)源升級改造后,利用該設備精確調整水平角度,鍍膜均勻性偏差從±10%降至±5%以內。

專注先進制程芯片制造的企業(yè),依靠SELN-001B定期檢測光刻機工作臺與光路系統,確保光刻圖案套刻精度達到納米級,為生產先進制程芯片提供堅實保障。

四、選擇SEM坂本數字水平儀SELN-001B的理由

SEM坂本數字水平儀SELN-001B集精度、便捷性與可靠性于一身,是精密制造領域不可少的測量工具:

高精度保證:采用MEMS技術的超高性能傳感器,確保測量結果準確可靠,為精密制造提供數據保障。

操作簡便:可以一邊看著顯示器屏幕一邊調整水平儀,就像看著氣泡水平儀一樣直觀,大幅降低操作門檻。

高效節(jié)省:通過雙軸同時調整功能,減少了調整工作所需的工時,提高了設備安裝和維護效率,降低生產成本。

廣泛應用:不僅適用于半導體制造設備,也廣泛應用于機床和汽車相關行業(yè),具有廣泛的行業(yè)適應性。

技術傳承:坂本電機擁有多年的精密設備制造經驗,超精密加工技術是其技術的基礎,保證了產品的品質。

SEM坂本數字水平儀SELN-001B以精準的測量、創(chuàng)新的設計和實際的應用效果,成為半導體設備制造和機床精度檢測企業(yè)提升產品質量、提高生產效率、降低成本的選擇


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